二手 JM IOTA #129082 待售

JM IOTA
製造商
JM
模型
IOTA
ID: 129082
Sputtering target for sputtering systems Al / Cu, 1.5% 5N purity.
JM IOTA是一种用于沉积薄膜和厚膜的溅射设备。该系统是由两个工艺室组成的双磁控管溅射单元;一种用于薄膜沉积,另一种用于厚膜沉积。每个腔室包含自己的阴极、电源、气室和射频匹配。将超高吸尘器(UHV)机装入工具中,以保持腔室的清洁度。这样就可以沉积各种材料。薄膜沉积室设计用于较小的基板和要求高纯度、均匀性和低颗粒污染的应用。它能够从稀有金属、合金和聚合物中沉积材料,厚度范围很广,从亚单层到几百纳米。厚膜沉积室设计用于沉积厚厚的材料层,通常从几百纳米到几微米的厚度。金属氧化物、氮化物和碳化物都可以沉积在这个腔室里。腔室也能适应合金材料的沉积.两个腔室都有可调节的温度控制系统,使得沉积速率可以在广泛的材料范围内精确控制。这使得可重复的均匀涂层能够一致地应用于各种基材上。除了常规的沉积室外,IOTA还包括一种化学气相沉积(CVD)资产,使纳米复合材料膜能够沉积。CVD模型允许无机和有机材料的耦合沉积,从而产生多功能纳米复合材料膜。总体而言,JM IOTA溅射设备是一种极为通用的薄膜和厚膜沉积工具。它能容纳的材料和工艺种类繁多,使用户能够制造出污染最小的高质量薄膜。
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