二手 JUANT TECHNOLOGY JUT-SHX-3032 #9112373 待售

JUANT TECHNOLOGY JUT-SHX-3032是为工业薄膜沉积而设计的最先进的溅射设备。这个系统利用一个独特的过程，利用金属或介电靶来溅射，或将各种材料转化为原子和分子的薄膜。JUT-SHX-3032可提供精确的过程控制,并保持较高的沉积速率,从而实现高可重复性的优秀薄膜生产。它的自动化能力允许平稳的沉积操作，而直观的控制单元简化了过程的设置和操作。JUANT TECHNOLOGY JUT-SHX-3032的核心是其强大的多室溅射机，它使用三个高速目标和四个独立的溅射枪将材料沉积到基板上。目标由工具的双相、三相和间隙相电源供电。四支溅射枪中的每一支都是可独立调节的，让使用者有能力将特定的材料储存到基板上的特定位置。JUT-SHX-3032装有低温货舱，用于低温材料加工。这个低温室是温度控制的，保持温度均匀，不超过1.5摄氏度，减少杂质，使质量和产量最大化。该室采用一种独特的、获得专利的双基板或双面技术，使用户可以将材料同时沉积在两个基板上。这允许均匀沉积，并消除基材的可变性。为了确保质量和可重复性，JUANT TECHNOLOGY JUT-SHX-3032采用了最先进的过程监控系统。这包括实时可调过程阻抗控制,该控制可调整材料饱和度以确保均匀沉积,以及温度绝缘资产以保持目标和组件的最佳温度。此外,JUT-SHX-3032还具有沉积陶瓷靶向材料的能力.其陶瓷靶向模型的设计使氮化硅、氧化硅和其他陶瓷材料的沉积具有很高的精度和精确度。总体而言，JUANT TECHNOLOGY JUT-SHX-3032是一种先进的溅射设备，具有高精度的过程控制和优异的重复性。其精密的工程设计，使得优越的薄膜生产具有高度的均匀性和一致性。JUT-SHX-3032具有多种用途，非常适合工业薄膜沉积。