二手 KDF 744NT #293809824 待售
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ID: 293809824
Sputtering system
Materials used:
Molybdenum
Aluminum/silicon
Titanium
ITO
Tantalum.
KDF 744NT是为先进薄膜沉积工艺而设计的尖端溅射设备。该系统采用最先进的技术和坚固的结构,为半导体、光学涂层和研究行业的广泛应用提供了无与伦比的性能和多功能性。744NT以精确度、效率和可靠性为重点，处于溅射装置技术的最前沿。KDF 744NT的一个主要特点是其先进的溅射能力，它可以精确控制薄膜厚度、组成和性能。该机器利用磁控管溅射过程，使用高功率磁控管源将物料从目标溅射到基板上。这一工艺确保了均匀和高质量的薄膜沉积，非常适合需要精确薄膜涂层的应用。744NT配有多个阴极，使各种材料的沉积具有不同的组成和性能。这种灵活性允许用户创建具有定制特性的复杂多层结构，如具有特定折射率的光学涂层或具有受控电性能的半导体薄膜。该工具还支持共溅射，可以同时溅射多种材料，以产生具有独特特性的新合金或化合物。除了溅射功能外,KDF 744NT还提供高级工艺控制功能,可提高沉积精度和可重复性。资产配备了一个用户友好界面，允许操作员实时编程和监控沉积参数。精确控制气流、压力、底物温度和沉积速率可确保一致和可重现的结果，使模型适用于研究和生产环境。为了进一步提高其性能，744NT采用了一系列先进的监测和诊断工具。原位计量技术，如石英晶体微平衡（QCM）和光谱椭圆偏振法，提供沉积过程中膜厚度、成分和光学性质的实时反馈。这允许用户即时调整工艺参数，优化胶片质量和性能。KDF 744NT的设计还考虑了工作效率和正常运行时间。该设备具有一个大容量基板支架，可以在一次运行中容纳多个基板，提高吞吐量和效率。锁载室允许快速无污染地装载和卸载基板,从而最大程度地减少运行之间的停机时间。此外，该系统还配备了先进的真空泵送系统和原位等离子体清洗能力，以保持清洁和稳定的工艺环境。总体而言,744NT是一个最先进的溅射装置,为薄膜沉积应用提供无与伦比的性能、多功能性和可靠性。凭借先进的溅射能力、精确的工艺控制和先进的监控工具，该机非常适合需要具有量身定制性能的高品质薄膜涂层的广泛行业和研究领域。无论是用于光学涂层、半导体器件，还是用于研究目的，KDF 744NT都为溅射工具技术设定了新的标准。
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