二手 KDF 903ix #9249504 待售

KDF 903ix是为各种半导体制造工艺中的沉积而设计的最先进的溅射设备。它是一个三目标、双源、超高真空垂直下降溅射系统，使底物上极为均匀的薄膜能够低温沉积。该单元具有双阴极,每个阴极具有三个独立可设置和可查看的目标。可视目标还使用户能够快速识别哪些材料被溅射，哪些基材被对齐。双源方法可以在基板上实现均匀的低温沉积，而垂直下降的方法可以减少颗粒污染。903ix具有低温溅射加热机，使用户能够在高达500 °C的温度下溅射薄膜。它还有一个高平均功率的熄火工具，它为所有过程提供更快、更均匀的沉积。在沉积过程中，使用延长寿命的熔炉将颗粒保持在海湾中，并使用机器人的熔炉卫生设备，以保持薄膜清洁和无颗粒。该型号具有单一的适应性和可扩展的多区域电源,总功率高达1600瓦,可提供多种溅射选项。此外，该设备还具有补偿基板和目标热效应的能力。KDF 903ix还配备了集成的过程监控功能，包括厚度和电板电阻映射功能，用于原位过程监控。它能够精确的位置控制和溅射头对准，确保目标始终正确对准正在处理的基板。总体而言，903ix溅射系统是一种先进的装置，能够在任何基板上提供任何材料的均匀薄膜。它具有精确的工艺优化和控制能力，意味着用户可以实现精确、可复制、均匀的薄膜。