二手 KDF / EMITECH / EMCORE K350G #9240958 待售

KDF/EMITECH/EMCORE K350G是一种适用于大面积基板上薄膜沉积的高质量溅射工具。该设备由一个电磁激活的阴极组成，该阴极用氙气离子轰击基板，使薄膜的沉积具有均匀的覆盖范围。该系统具有决定其薄膜沉积效果的几个先进特点。首先，KDF K350G单元配备了基于放置在目标表面下方的超导电磁体的高功率有源磁场。这使得离子轰击能够以高精度进行，导致薄膜沉积特性均匀。其次,EMCORE K350G机设计方便维护.它需要最小的维护或调整,并且设计用于最大的正常运行时间。第三，EMITECH K350G工具提供多种配置的嵌入式调理烤箱的灵活性，使不同阶段的烘烤和退火适合各种薄膜沉积应用。嵌入式调节炉使资产能够比传统的溅射工具实现更高的增长率，同时提供对薄膜性能的控制。第四，K350G模型采用磁控管溅射法，使薄膜沉积的均匀性优于其他方法。这一特征有利于沉积高度均匀的薄膜，从而使薄膜更加光滑和一致。最后，KDF/EMITECH/EMCORE K350G设备配备了全方位的流程监控系统、流程自动化能力、计算机控制和环境控制。这些系统确保了可靠、高效和高质量的薄膜沉积，消除了潜在的工艺变异性。总之，KDF K350G是一种适用于大面积基板薄膜沉积的高质量、经济高效的溅射系统。由于采用了嵌入式调理炉和磁控管溅射方法，以及优良的环境和工艺控制系统，它为薄膜沉积提供了优越的均匀性。