二手 KOREA VACUUM TECH KVS-2004L #293654721 待售

ID: 293654721
Sputtering system Target 6".
KOREA VACUUM TECH KVS-2004L Sputtering Equipment是为先进的薄膜沉积应用而设计的最先进的系统。它拥有强大的1,000 W电源、直流电(DC)电源、高真空室以及许多其他功能,使其成为许多应用的理想选择。KVS-2004L溅射装置具有一个方便的装卸室,具有5.5 "OD和高达3" ID。这使得它非常适合同时沉积大基板或许多小样品。它还有一个预算友好的价格标签,使其成为一个理想的适合研究实验室。机器的集成500 WDC电源使您能够精确地控制溅射过程。它能够产生高达0.2毫巴的真空,非常适合沉积过程。该工具还采用了一些专门的气体进料操作,其中包括氙气、氦气和其他合金。为确保溅射材料的均匀分布,韩国真空技术KVS-2004L利用四个磁体组成的阵列,所有磁体都具有500高斯强度的磁场。这样可以确保您的溅射涂层均匀且很好地应用于基板上。此外,资产还包括一个自动控制模型,可以根据您的特定需求进行调整。KVS-2004L是许多薄膜沉积应用的绝佳选择。它结合了集成组件、功耗、准确性和经济性,使其成为全球实验室的理想选择。此外,该设备还提供了一个高效、经济高效的解决方桉,用于创建统一的高质量薄膜。
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