二手 KOREA VACUUM TECH VTC PVD-1300 #9173159 待售

KOREA VACUUM TECH VTC PVD-1300是一种用于薄膜涂层和高级研究应用的溅射沉积设备。该系统利用高功率的二极管式溅射源沉积薄膜，将产生具有非凡均匀性和高沉积速率的涂层。设备的Source to Wafer Distance （SWD）是可调的,允许目标到基板距离的各种配置,以获得最佳的薄膜沉积条件。该PVD-1300在电子源上还有一个低能电子轰炸机（LEBS），使其能够传递具有精确控制能级的高功率电子束。该工具几乎适用于任何气体，并提供控制资产内气体压力的能力。该PVD-1300除了具有溅射沉积能力外，还配备了先进的温度控制系统。其加热和冷却源可调10至300 °C，可保持基板温度稳定均匀。消费者还可以利用PVD-1300的自动压力控制模型在腔室内保持恒定的运行压力。KOREA VACUUM TECH PVD-1300具有直观的控制设备,可访问溅射过程的设置和参数。它能够储存多达10个预设的操作条件，协助科学家快速建立系统供即时使用。该PVD-1300还提供了一些监测系统，例如自动关机功能，以确保操作过程中的安全并防止损坏设备或部件。该PVD-1300是一个强大和可靠的溅射机设计，允许薄膜的沉积以最高的精度。其可调的SWD和温度控制系统提供了最佳的薄膜沉积条件，而其自动压力控制工具则提供了保持恒定运行压力的便利。该PVD-1300还有预设的操作条件和安全监控系统，以确保安全运行。KOREA VACUUM TECH PVD-1300具有强大的特性和精确的控制能力，是薄膜涂层和先进研究应用的绝佳选择。