二手 KURT J. LESKER CMS-18 #9183484 待售

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ID: 9183484
Sputtering system Dual chamber with load lock (3) Cathodes in each chamber PLC Process control Substrates: Up to 8” diameter Substrate rotation Substrate bias, RF & DC Substrate heater: Up to 500°C 3” Magnetron sputter cathodes Process gases: Ar, O2, N2 RF & DC power supplies Co-sputter capability.
KURT J. LESKER CMS-18是一种用于将薄膜沉积到基板上的综合性溅射设备。它是一个通用的底物分子束外延(MBE)平台,允许研究人员为各种应用进行研发。凭借高温、高温沉积、双极化电子轰击、原位诊断等先进能力,CMS-18是研究和工业生产的理想选择。KURT J. LESKER CMS-18由几个模块组成,包括一个测量师级、一个四口袋源架、一个高温石英基板船、一个低压等离子源(LPPS)、一个气流控制系统和一个光机室。测量师阶段允许四口袋源持有者与驱动轴一起移动到任意位置,以实现基板和其他部件的高度精确定位。四袋源支架允许将四种不同的目标材料沉积到同一基材区域。这大大提高了生产能力,可以减少生产时间。高温石英基板船是专门为维持高温热过程而设计的。它可以长时间承受高达1200 °C的温度。此外,船上还装有石英或热解石墨(pg)基板支架,为MBE工艺提供了良好的高温控制环境。LPPS用于基板的表面预处理和活化。这种装置可以使均匀的离子通量到达目标表面,并有助于提供全局表面活化,以改善膜的均匀性。除了LPPS之外,气流控制单元进一步优化了工艺参数。用于引入和维持光机室内的气体压力。测量气体压力以精确平衡和控制溅射速率和沉积过程。为了最大限度地提高CMS-18机器的性能,光机室设有可实时观察和分析薄膜沉积的视窗。然后利用结果对沉积参数进行相应调整,以获得最佳性能。KURT J. LESKER CMS-18是一个坚固可靠的工具,提供适合研究和工业制造应用的全自动沉积过程。它提供了所有必要的组件,以创建高质量的薄膜精确所需的应用。它提供高温操作、提高沉积速率、低能耗、高精度。由于其精确的控制和灵活的配置,CMS-18是需要薄膜沉积的应用的绝佳选择。
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