二手 KURT J. LESKER CMS-18 #9184206 待售
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ID: 9184206
Sputtering system
Dual chamber with load lock
(3) Cathodes in each chamber
PLC Process control
Substrates: Up to 8” diameter
Substrate rotation
Substrate bias, RF & DC
Substrate heater: Up to 500°C
3” Magnetron sputter cathodes
Process gases: Ar, O2, N2
RF & DC Power supplies
Co-sputter capability.
KURT J. LESKER CMS-18是一种单站高容量溅射设备，专门为可靠和可重复的低温溅射沉积过程而设计。该系统具有采用传统直流磁控管溅射和脉冲直流（PDC）的先进特点。它是一种用途广泛的沉积工具，能够溅射铝、铬、铜、镍、金和银等金属薄膜。适用于学术、工业和研究实验室。CMS-18单元包括一个用于为溅射头供电的大容量高压电源、一个真空室、一个真空泵和一组精确的可变密度目标（VDT）组件。电源能够为多达四个独立的溅射头提供足够的电源。VDT组件确保均匀一致的溅射沉积均匀性。为了控制沉降速率，提供了一种可变的航天飞机升降机构，可实现精确的均匀目标定位。真空室的最大工作压力为8 mTorr，适用于直流和PDC模式。大型真空室配有顶部安装的隔离阀，可在需要或需要时快速安全地隔离气体。该机还具有温度和过程监控等先进的过程控制功能。除了溅射工艺外，KURT J. LESKER CMS-18还支持氧化铝、硅等常见基材材料以及氧化物、氮化物、碳化物、氟化物等其他沉积材料。该工具还包括气体输送资产，进一步允许反应性溅射过程。CMS-18是一种高效的工具，它确保所有的过程，如溅射过程都是可靠和可重复的，并且可以显着提高沉积膜的均匀性。该模型带有一套用户友好的软件，为操作员提供操作参数和薄膜沉积过程的实时信息。KURT J. LESKER CMS-18是一个很好的可靠工具，为不同的物品沉积要求提供解决方桉。除此之外,它还提供了极大的灵活性和对过程的控制,以确保实现所需的参数和质量薄膜。CMS-18具有优异的特点,提供了可靠、先进、通用的低温溅射沉积溶液.
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