二手 KURT J. LESKER Lab 18 #9050909 待售
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已售出
ID: 9050909
优质的: 2007
Sputtering system, 4"
Single chamber
Single load lock DC/RF sputter
(5) targets
Currently processing 4” wafers, bottom up sputter with IR/Heated sputtering
2007 vintage.
KURT J. LESKER Lab 18是一种最先进的溅射设备,设计用于利用气体排放工艺从金属或其他材料生产薄膜。溅射过程开始于在一个封闭的室内创建一个等离子体。这种等离子体,只是一种电离气体,然后被一种惰性气体,例如氙,轰击,从而导致目标物质的原子从其中脱落。然后将脱落的原子以薄膜的形式投射到基板上。因此,精确控制质量、压力和能量对于确保达到所需的胶片附着力和均匀性至关重要。这就是实验18的优势所在。该系统具有各种先进的特点,可以共同确保溅射过程的精度。例如,源腔室压力是数字可调的,允许操作员轻松地将压力调整到特定作业所需的任何位置。该装置还设有一个特殊的可编程目标加热器,可防止目标在操作过程中过量服用。KURT J. LESKER Lab 18更有特色让它脱颖而出。机器中已建立了广泛的安全协议,例如,有氧气监测仪,旨在通过确保安全的操作环境防止爆炸。该工具还配备了精密的监控资产,并配备了实时闭路电视摄像机,使操作员可以实时观察溅射过程。最后,可以根据用户的要求配置实验18,以便在目标基板的尺寸和形状以及所使用的目标材料方面具有灵活性。简言之,KURT J. LESKER Lab 18是一种先进的溅射模型,旨在提高薄膜生产的精度和精确度。Lab 18具有多种功能,旨在确保安全和操作效率,对于任何需要可靠且易于使用的溅射设备的人来说,它都是一个绝佳的选择。
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