二手 KURT J. LESKER Pro Line PVD 75 #9113549 待售
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ID: 9113549
Thin film deposition system
Various targets
(2) SS Chamber liners
Turbo pump: 500 l/s
Dry pump upgrade
Torus 3 Sources flange assembly
Torus Source flex mount
KJLC 600W RF Power supply
AE DC Power supply: 1.5 kW
Substrate fixture (Top mount, base unit)
Upstream pressure control
Primary rotation
Recipe driven computer control
TKD 100 Recirculating chiller:
Cooling: 10,000 BTU/hr at 20°C
Condenser: Air-cooled, ambient rating at 90°F
Temperature control range: 5-35°C, ± 1°C
T31H Turbine pump: 6 GPM at 60 PSI
Tank: 2.5 gal
Dimensions: 21½" x 35¾" x 28 5/8"
Connector: 3/4" Female NPT
Interior chamber
Gas tanks & targets
Power: 208/230V, 60 Hz (P2), single phase.
KURT J. LESKER Pro Line PVD 75是为半导体生产而设计的高性能溅射设备。其紧凑的布局和自动化的控制特性使其成为工业用途的理想解决方桉。它能够制造各种材料和厚度的阳极和阴极涂层，以及其他底物修饰。Pro Line PVD 75集成了大功率直流电（DC）源、二维电动级、固态电源以及全控制模块。直流电源范围从1.2到50 kW可调，允许改变基板加热器温度。配备闭环数字读出系统的电动级实现了对基板位置的精确、可重复控制。另外,射频发生器用于溅射过程.通过控制模块可以设置工艺参数，包括基板温度、预沉积、溅射直流功率和气压，并以数字方式显示所有信息。该SPI-75还包括一个负载锁定沉积单元和一个可旋转的目标支架。该机器能够容纳各种不同尺寸的目标材料。还集成了惰性气体输送工具，允许输送更高的压力，同时将污染程度控制在最低限度。KURT J. LESKER Pro Line PVD 75旨在在广泛的应用中实现高质量的沉积。可以调整工艺参数，以优化项目要求，确保持续高质量的成果。资产还配备了统计过程控制设施，允许对产量、质量和颗粒污染进行在线反馈。Pro Line PVD 75是一种功能强大的溅射工具,可高效可靠地执行各种沉积和基板修改过程。其高度自动化和复杂的控制功能使其高效,同时产生了当今先进工艺技术最一致的结果。
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