二手 KURT J. LESKER Pro Line PVD 75 #9397771 待售

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ID: 9397771
Thin film sputtering system Vacuum chamber Heater assembly Vacuum / Heater controller Vacuum pump.
KURT J. LESKER Pro Line PVD 75是专门为薄膜沉积而设计的双磁控管溅射设备。其特点包括两个独立的射频(RF)溅射电源、可变射频功率和频率以及可变过程气体压力。PVD 75还利用高温平面敏感源,有助于提高沉积速率,同时提供均匀的薄膜厚度。PVD 75有一个8英寸的二极管沉积室和一个双源磁控管。这保证了由于大面积溅射而产生的最大沉积速率和均匀性。PVD 75还有三个高温感应源,可以处理高达500℃的底物温度。这种可操纵的夹具使得改变从基板到目标的距离变得更加容易。PVD 75还有一个工艺气体压力控制系统,旨在更有效地利用工艺气体。它还为较高的沉积速率提供了所需的压力和输送速率。PVD单元的设计是为了最大限度的效率、安全性和便利性。它具有以数字方式显示在控制面板上的温度、压力和电源监控功能。这使用户能够实时监控流程,并及时做出任何必要的调整。此外,还可以存储和监测数据,以便更好地了解沉积过程。PVD 75也是完全自动化的,具有独立和远程控制模式。这样可以确保用户可以继续执行其过程,而无需手动操作计算机。PVD还具有自动源匹配和可根据流程需求调整的机动目标。Pro Line PVD 75是一种先进的溅射沉积工具,它提供了出色的沉积速率和薄膜均匀性。它易于操作、高效,并提供多种功能,如两个溅射电源、可调基板温度、过程气体压力控制、数据集成和远程控制。寻找可靠、高性能溅射沉积资产的客户应考虑KURT J. LESKER Pro Line PVD 75。
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