二手 KURT J. LESKER PVD 75 #293608382 待售

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ID: 293608382
Thin film deposition system.
KURT J. LESKER PVD 75是一种基于真空的薄膜沉积设备,用于在刚性和柔性基板上生产各种材料的薄膜。这个系统背后的技术称为物理气相沉积(PVD),允许只有几纳米厚的薄膜均匀沉积到各种表面。与其他形式的沉积不同,聚氯乙烯不需要使用可燃气体或极端温度,使其成为工业和科学环境中一系列应用的理想选择。PVD 75具有涡轮分子泵,极限压力为1x10-10 Torr,2.75英寸溷合室。钨丝蒸发源被包裹在不锈钢快门中,并受到法拉第保护以消除干扰。所有电子参数都可以通过触摸屏用户界面进行监控和调整。KURT J. LESKER PVD 75的工艺控制器使用户能够精确控制沉积速率和层厚,以及功率水平和灯丝电流。该单元还包括一个薄膜厚度监视器,以确保将该层应用于所需的厚度。此外,PVD 75还有VersaCote软件,它允许用户为不同的电影应用创建高度精确、动态的工艺配方。此软件还允许远程监视,允许用户在机器上签入而不存在。该设置还包括一个负载锁定室以及一个平面屏幕触摸屏查看窗口。总体而言,KURT J. LESKER PVD 75是一种用途广泛、精密的薄膜材料应用于表面的工具。它是专为製造只有几纳米厚的高度均匀的薄膜而设计,并在不引入可燃气体或极端温度的情况下这样做。资产的VersaCote软件允许精确控制沉积过程,而其集成的电子组件允许进行详细的监测和调整。PVD 75是从工业环境到科学环境等一系列应用的绝佳工具,是那些寻求精确高效薄膜沉积模型的人的理想选择。
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