二手 KURT J. LESKER PVD 75 #9164257 待售

KURT J. LESKER PVD 75是一种溅射沉积设备，可以将机械、光学、电磁膜沉积到基板上。该系统利用四个独立控制的溅射目标，直径从75毫米到150毫米，可同时沉积多达四种不同的材料。PVD 75利用三极管溅射枪将惰性气体（最常见的是散射）引导到目标材料上，允许将表面材料弹出，并将其收集到位于腔室的基板上。目标被安置在一个锁载室，以便便于目标进入，并尽量减少对舱室和基板的污染。负载锁的底压在机组不使用时保持在6 x 10-6 Torr。KURT J. LESKER PVD 75还设有一台电脑控制机，带有19英寸的触摸屏，可以让用户轻松浏览机器功能。控制工具包括流程信息、流程配方信息、资产状态、支持工具、数据日志记录、数据端口连接以及其他自定义功能的菜单驱动设置。溅射沉积过程在真空条件下进行，该模型具有优异的真空性能。可达到的最低压力为5x10-5 Torr。一个涡轮分子泵以隔膜机械泵为后盾，在不到五分钟的时间内给PVD 75快速泵降次数，压力上升幅度不超过2x10-5 Torr。KURT J. LESKER PVD 75包括一个集成的样品加热设备，允许高达500摄氏度的基板温度。该系统还能够精确控制基板和目标距离，以实现均匀沉积。该溅射机的互锁单元设计用于保护组件免受过压或暴露于过温下的损坏。PVD 75还具有广泛的安全工具,具有故障识别和报警功能。KURT J. LESKER PVD 75是一种可靠的、最先进的溅射资产，非常适合广泛的溅射沉积应用。其紧凑的设计、集成的供暖和安全系统，以及快速的泵降时间，使其成为研究和工业应用的理想选择。