二手 KURT J. LESKER PVD 75 #9218896 待售
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已售出
ID: 9218896
优质的: 2011
Thin film deposition system
Base system:
PVD 75 Base deposition system
Process equipment options:
MAGNETRON Sputtering: (3) Torus 3-source flange assemblies
Sputtering source power supplies:
(2) KURT J. LESKER 300W RF With auto match network
KURT J. LESKER 1kW DC
Substrate fixturing:
Substrate fixture: (Top mount, base unit, add for options)
Primary rotation
Process gas inlet: Upstream pressure control
Film thickness monitor or control: Film thickness monitor
System control / Automation:
Recipe driven computer control
2011 vintage.
KJL KURT J. LESKER PVD 75溅射设备是一种高性能、工业级的薄膜沉积系统，用于涂覆多种材料。它利用物理气相沉积（PVD）技术将金属薄层沉积在基板上，形成耐用、耐腐蚀和导电的涂层。该装置能够从几乎任何目标材料生产薄膜，包括不锈钢、钛、铜、镍、铬等。PVD 75有一个直径为2英寸的原料室和一个直径为2英寸的加工室。源材料室的电源通过变频交流电源提供，具有可调的输出电压和电流，从而能够准确控制沉积速率。KURT J. LESKER PVD 75使用静电平衡的航天飞机加上特别设计的射频溅射枪，减少基板上的材料堆积，增加沉积均匀性。自动控制机提供对溅射参数的精确控制，包括功率、气压、基板温度和原料温度。PVD 75还具有板载的沉积端传感器,该传感器可监视溅射过程的性能,并在该过程未最佳运行时提供自动关机功能。除了内置特性外,KURT J. LESKER PVD 75还提供了一系列可选配件,包括直径2英寸的元素源（可使工具溅射各种元素目标材料）,以及高性能的旋转源（可提高整个基板的均匀性）。PVD 75还能够沉积底层以改善附着力、防腐蚀层和导电金属层。该资产用途广泛，功能强大，是工业溅射操作的诱人选择。它还易于设置和操作，使其成为那些不熟悉溅射系统的人的理想选择。
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