二手 KURT J. LESKER Torus 101 #53523 待售

KURT J. LESKER Torus 101是一种磁控管溅射设备，设计用于薄膜沉积应用。该系统以DC或RF两种模式运行,以增强涂层的均匀性和附着力。当溅射层的均匀性不是临界时，DC模式是理想的使用方式，而RF模式则是高密度、高度均匀的材料层的理想选择。该装置具有可变气流控制、压力控制以及用于精确控制沉积速率、薄膜厚度和其他参数的中央处理装置。环面101利用产生高能离子的环形磁控管源溅射目标材料。这种设计允许在基板的整个区域上形成极为均匀的薄膜沉积。可以改变沉积厚度，同时在射频模式下保持均匀的薄膜质量。真空机器被集成到溅射工具中，以去除过程中产生的任何气体或颗粒。资产包括温度传感器和四分之一波匹配网络，以精确控制离子能量。先进的电源设计可实现高功率和低功率运行。此外，还将涡轮分子泵模型集成到设备中，以达到所需的底物温度，并在沉积过程中保持最佳的光井稳定性。此外,高级KURT J. LESKER Torus 101溅射系统还具有嵌入式诊断功能,允许用户评估设备性能。诊断程序提供有关磁控管、真空机、温度、气流和其他参数状态的信息。为了进一步提高精确度，用户可以从各种精密配方中选择最佳薄膜沉积。环面101溅射工具是快速均匀的薄膜沉积以及等离子体蚀刻和氧化应用的理想解决方桉。该资产旨在满足任何中型实验室的需求，并允许可靠和可重复的结果。其多功能性和精确度使其适合于广泛领域的工业和研究应用，如微电子学、光学、航空航天工程等。