二手 LEYBOLD H3200 Cu / In #293629878 待售

ID: 293629878
优质的: 2009
Sputtering system (3) Sputtering chambers 2009 vintage.
LEYBOLD H3200 Cu/In是一种用于薄膜材料沉积的溅射设备。此通用系统提供了一系列处理过程的功能,包括玻璃涂层、陶瓷涂层和基于硅的应用程序。它配备了三个独立的溅射能源(DC、射频和磁控管),并具有高效的冷却单元,允许广泛的工艺条件。H3200 Cu/In溅射机是出于安全考虑而制造的。该工具配备了一系列安全功能,包括防止弧形在溅射源和基板支架之间跳跃的弧形室。此外,腔室还具有压力控制资产,可确保压力在沉积过程中保持在安全水平。LEYBOLD H3200 Cu/In模型的直流源能够有效地从铝和铜等目标中沉积金属。参数可根据不同的应用要求轻松调整。射频离子源使离子轰击成为反应性溅射,与直流溅射相比,其沉积速率更快。磁控管源也可与直流和射频溅射结合使用,用于组合溅射。H3200 Cu/In设备是一种可靠高效的溅射系统,能够生产高质量的薄膜涂料。它具有广泛的操作范围,可用于各种应用程序。这种多功能性使得它成为工业、科学和研究应用的一个有吸引力的选择。此外,还可以升级设备,以满足新的要求,从而提高生产率和效率。LEYBOLD H3200 Cu/In溅射机是寻求先进可靠溅射工具的企业的绝佳选择。
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