二手 LEYBOLD Helios 2100 #293601797 待售

LEYBOLD Helios 2100是为涂覆大面积基板而设计的双磁控溅射设备。该系统具有两个独立的磁控管源,提供了比单源双目标系统更大的过程灵活性和更高的吞吐量。它还允许广泛的材料和应用，包括半导体、光学、显示器和封装。Helios 2100使用具有0.5-4.0 kW电源的双磁控管电源进行精密膜沉积。集成直流磁控管溅射源具有内建的过程控制，具有均匀性和可重复性，单元包括集成晶圆温度监测机。源可以向上和向下移动，以适应多达三个基板尺寸和特点基板之间的可调垂直间隙。该工具还具有板载过程控制器、自动操作、10点晶圆映射资产以及配方和参数保存功能。LEYBOLD Helios 2100具有坚固的设计,便于维护和清洁。外壳的设计旨在减少污染和停机时间。该模型还提供了多种选项来增加其溅射涂层能力，如直流等离子体源、射频功率、反应性溅射和多级溅射。集成的脉冲直流、空心阴极和"双目标"磁控管溅射源提供了更好的膜均匀性和更高的沉积速率。Helios 2100提供了一系列过程控制和保护功能,例如电源控制、水冷和直流电源调节。它的软启动设备允许与工厂自动化系统无缝集成,而其全面的软件包使从PC监控过程变得容易。该系统还包括安全功能，如操作条件超过预设限制时自动关闭。总之，LEYBOLD Helios 2100是一种强大可靠的大面积基板溅射装置。它提供了卓越的膜均匀性和可重复性，加上广泛的过程和保护功能，以确保安全和高效的操作。