二手 LEYBOLD Helios 400 #293590262 待售

LEYBOLD Helios 400是一款高性能的溅射设备，专为工业和研究应用而设计。它为将薄膜溅射到各种基板上提供了高度的工艺控制和精度。Helios 400有模块化的设计，允许其配置以满足特定的应用要求。该系统采用高真空不锈钢腔室，底压大于2 × 10-6毫巴。柔性腔室配置最多可容纳四个溅射源，具有一系列可用的尺寸。源可以独立定位，允许大而复杂的薄膜沉积区域。该单元还有一个集成的基板处理机，允许高效和准确的样品定位。LEYBOLD Helios 400具有LEYBOLD先进的溅射控制工具，提供精确的过程控制和可重复的溅射速率。该资产还与流程监控兼容，允许持续的流程优化。该模型与真空兼容，可与一系列工艺气体和泵送系统集成。提供了一系列控制器选项,可访问多个控制功能和一系列数据输出以进行流程监控。该设备还与一系列外部磁控管兼容，允许沉积具有高磁特性的材料。除了其溅射应用外，Helios 400还可用于多种其他任务，如蚀刻、形成双层、沉积高反射和保护性涂层等。这种灵活性和控制使得LEYBOLD Helios 400非常适合生产高质量和可靠的薄膜。