二手 LEYBOLD HERAEUS Z400 #9363002 待售
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ID: 9363002
优质的: 1982
Sputtering system
(3) Cathodes
RF Mode
Maximum sample size: 3"
Number of targets: 3
Reactive gases: Ar, O2
Compressed air pressure: 7 to 9 Bars
Water pressure: 4 to 7 Bars
Substrate bias: Maximum -150 V
Substrate heater: Maximum 500°C
Base pressure: <2 x 10^-5 mBar
Generator:
Type: IGD 0.5/13500
Power: 0.5 kW, 220 V, 50 Hz
DC Power supplies: 500 W
RF Power supplies: 600 W
Power supply: 220 V, 50 Hz, 25 Amps
1982 vintage.
LEYBOLD HERAEUS Z400溅射设备是一种高度专业化的设备,用于各种不同的行业。它是一种常用于薄膜生产的真空沉积系统，如用于生产微电子元件、太阳能电池等薄膜技术的。Z400的独特之处在于它能够实现厚度和掺杂均匀的高密度沉积物，同时还具有出色的工艺控制和可靠性。LEYBOLD HERAEUS Z400主要由三部分组成：电源、真空室和沉淀源.电源包括两个高压输出，一个用于直流（DC），另一个用于交流电（AC）。直流输出用于驱动Ar或Xe溅射，而交流输出用于驱动离子轰击，也称为离子辅助沉积。与每个输出相关的高压电势和频率是可调的，允许更大的过程控制和操作。真空室由工艺气体和沉积源之间的界面组成。这就是保持真空水平的地方，同时允许将反应性气体和非反应性气体引入腔室。本节还包含将目标材料引入设备所需的端口。沉积源是将目标材料放置并溅射到下面的基材上的地方。在Z400上，采用旋转滚筒溅射机实现高密度、均匀的沉积。该工具还包含石英窗，能够加速源燃烧能力，而腔盖则配备了用于基板清洁和离子轰击过程的电子枪资产。LEYBOLD HERAEUS Z400是一种先进、可靠的溅射模型,在薄膜沉积方面提供无与伦比的工艺控制和设备性能,可广泛应用。它结合了旋转滚筒溅射、离子轰击和广泛的工艺控制，使其成为生产最佳薄膜沉积的理想工具。
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