二手 LEYBOLD HERAEUS Z550 #131001 待售

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製造商
LEYBOLD HERAEUS
模型
Z550
ID: 131001
Semi-automatic cathode sputtering system Includes: (Qty 2) PK150 magnetron sputtering cathodes: 6" diameter Cathodes for DC and RF DRESSLER Caesar 2.5 kW RF sputtering power supply DRESSLER VM 3000 automatic matching unit GS30 / 800 ADL DC sputtering power supply, 3 kW Substrate table with water cooling and RF-bias / RF-etching Gas inlet system with mass flow controller Second gas inlet is prepared LEYBOLD D-60A prevacuum pump LEYBOLD Turbovac 450 turbomolecular pump with LN2-baffle.
LEYBOLD HERAEUS Z550溅射设备是一种高性能、低成本的薄膜真空沉积工具。它是为各种材料在各种尺寸和形状的基板上的精确和受控沉积而设计的。该系统能够沉积10至100 nm厚的物料层,可用于各种基板和材料上的薄膜物理气相沉积(PVD)。LEYBOLD HERAEUS Z 550具有许多功能,使其成为高精度PVD应用的最佳选择。它包括一个具有200 mm x 200 mm设计面积的现代闭环单元,这使得它非常适合更大的基板。腔室的温度范围高达200 °C,可以在整个基板上进行温度控制和均匀性。此外,该机具有高精度的气体输送工具,使气体得以精确的引入和控制。HERAEUS Z550包括许多其他功能,使其特别适合PVD应用。它具有高精度、低真空沉积的高真空泵机。资产也可以配置为双阶段沉积,这意味着可以在一个周期内执行两个不同的过程步骤。这样可以沉积较厚的层,以及不同材料较薄的层。LEYBOLD HERAEUS HERAEUS Z550还具有精确控制的校准和校准模型,可确保每个循环的沉积质量一致。这有助于减少变化并确保不同基板上薄膜厚度的均匀性。它还有助于减少杂质或聚氯乙烯中使用的气体点火对基板造成任何损害的可能性。此外,设备完全自动化,并配有用户友好界面,便于设置、操作和控制。最后,Z550是高精度PVD应用程序的经济高效选择。它提供了一个全面的功能包,而不打破银行,使它成为一个聪明的选择,任何人都希望将各种薄膜沉积到各种基板。
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