二手 LEYBOLD HERAEUS Z550MS #293766919 待售

LEYBOLD HERAEUS Z550MS
ID: 293766919
Sputtering system Load lock system Pumping system Turbo molecular pump Vacuum gauge control D40B Rotary vane pump IM 110D Ionization vacuum gauge Flow control for (2) Gases Substrate load lock Power switch Process module DC Power supply.
LEYBOLD HERAEUS Z550MS是在各种工业和研究应用中为薄膜沉积设计的最先进的溅射设备。该系统由领先的制造商LEYBOLD HERAEUS开发,集成了先进的技术,提供高性能的溅射功能,具有卓越的精度和控制能力。Z550MS单元的核心是磁控管溅射技术,它允许高效的材料沉积到基板上。磁控管溅射涉及利用磁场来增强目标材料周围的等离子体密度,从而产生更加均匀受控的薄膜沉积过程。LEYBOLD HERAEUS Z550MS配备了多个磁控管源,使得多种材料的沉积和复杂的多层薄膜的产生成为可能。Z550MS具有坚固的真空室,为溅射过程提供清洁和受控的环境。该机配备了高性能抽油机,能够达到和维持高质量薄膜沉积所必需的超高真空水平。真空室的设计还能最大限度地减少污染,确保薄膜性能的可重复性。LEYBOLD HERAEUS Z550MS资产的关键亮点之一是其先进的过程控制能力。该模型配备了精密的监控系统,允许操作员实时精确调整气体流量、沉积速率、目标功率、基板温度等参数。这种控制水平保证了膜的厚度、成分和附着力均匀,优化了沉积薄膜的质量和性能。Z550MS还具有一个用户友好的界面,配有简化设备操作和数据分析的直观软件。操作员可以轻松地对溅射过程进行编程和监控,查看实时数据,并生成详细的报告进行进一步分析。该系统的自动化功能简化了工作流程,提高了薄膜沉积应用程序的效率和生产率。在多功能性方面,LEYBOLD HERAEUS Z550MS提供了广泛的配置和定制选项,以满足特定的应用程序要求。从单基板研究装置到大型生产系统,Z550MS可以量身定制,以适应不同的基板尺寸、形状和材料。另外,该单元与各种溅射靶标兼容,包括金属、氧化物和氮化物,允许沉积广泛的薄膜材料。LEYBOLD HERAEUS Z550MS的设计考虑到可靠性和耐用性,适合在苛刻的工业环境中连续运行。机器部件由高质量的材料构成,经过精心设计,能够承受溅射过程的严酷。LEYBOLD HERAEUS提供全面的技术支持和维护服务,以确保Z550MS工具的最佳性能和正常运行时间。总之,LEYBOLD HERAEUS Z550MS溅射资产是薄膜沉积应用的前沿解决方桉。凭借先进的磁控管溅射技术、坚固的真空室、精确的过程控制功能和用户友好的界面,Z550MS为广泛的工业和研究应用提供了卓越的性能、多功能性和可靠性。无论是用于研发还是大规模生产,LEYBOLD HERAEUS Z550MS都能提供高品质的薄膜,具有非凡的均匀性和可重复性。
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