二手 LEYBOLD HERAEUS Z550S #9192875 待售

ID: 9192875
Sputtering system With load-lock (5) Cathode positions (4) Cathodes PK150 Heater RF & DC Sputtering.
LEYBOLD HERAEUS Z550S是一种溅射设备,设计用于使用各种溅射目标进行物理气相沉积(PVD)。利用阴极电弧沉积(arc PVD)沉积厚度变化的高纯度金属和非金属材料薄膜。也可用于制造单层和多层涂层。Z550S溅射系统设计用于先进的研究和工业应用,如半导体级显示器和光学涂层。LEYBOLD HERAEUS Z550S有一个四目标炮塔,具有可调角度,以方便胶片对准和层一致性。溅射室直径为6英寸(152毫米),长度为18英寸(457毫米),这使其具有用于溅射更大面积基板的大腔体体积。Z550S可以容纳直径不超过8英寸(203毫米)、厚度不超过4 ″ (102毫米)的基板。集成式冷却套有助于最大限度地减少目标和基板的加热。LEYBOLD HERAEUS Z550S溅射装置具有高性能电子回旋共振(ECR)离子源。与传统的射频离子源(RF-PVD)相比,这种离子源在目标和底物上提供了更为均匀和均匀的离子轰击。ECR离子源在较大的基质区域上具有良好的沉积速率均匀性,适用于非导电材料、慢侵蚀靶等各种特殊靶标。Z550S溅射机配备了先进的过程控制软件,使用户能够方便地编程沉积过程和监控沉积参数。该软件还允许用户创建工艺数据库,该数据库可以存储和加载传统复杂涂层工艺的参数。用户可以通过LEYBOLD HERAEUS Z 550S的电脑界面监控和控制基板温度。Z550S溅射工具设计方便维护,其部件由优质材料制成,具有最大的耐用性和可靠性。其软件可通过闪存驱动器轻松更新,并且资产还提供远程诊断和故障排除服务,以最大程度地减少停机时间。因此,LEYBOLD HERAEUS Z550S是用于研究和工业应用的可靠、经济实惠且易于使用的溅射模型。
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