二手 LEYBOLD HERAEUS Z650 #27258 待售
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ID: 27258
Sputtering system equipped with load lock / exit chamber with Leybold Trivac D65B prevacuum pump, Leybold Turbovac 1000 turbo molecular pump, and RF plasma cleaning. Process chamber A with Alcatel 2063 prevacuum pump and Pfeiffer TMH1001P turbodrag pump (TMH is as good as new), 3 x new PK 200 sputtering cathodes positions, RF and DC sputtering power supply, (combined with process chamber B), Balzers QMG064 massaspectrometer; Process chamber B with Leybold Trivac D65B prevacuum pump, Leybold Turbovac 1000 turbo molecular pump, 2 x new PK 200 sputtering cathodes positions, 1x substrate heating position, RF and DC sputtering power supply, (combined with process chamber A), RF bias, Balzers QMG064 massaspectrometer, can be retrofitted to your specs.
LEYBOLD HERAEUS Z650是一种用于薄膜沉积的溅射设备。该系统用途广泛，可用于多种材料，如氧化物、氮化物和金属。该单元由一个超高真空室、一个磁控管阴极和一个嵌入式真空过程控制器（EVPC）组成。该机最多可容纳两个目标进行溅射，可同时用于直流和脉冲直流溅射。LEYBOLD HERAEUS Z 650具有一系列功能,可确保过程稳定性、可重复性和精度。这些特点包括：基于微处理器的嵌入式真空处理控制器（EVPC），具有5.7英寸的屏幕和触摸板用户界面；具有前泵装置的三重涡轮分子泵站；内置冷却器的闭环冷却工具；以及自动定位资产,可确保可重复的溅射结果。Z650提供了大量令人印象深刻的过程参数,允许用户根据其指定的需求自定义模型。为达到可重复、精确的效果，设备提供了精确的流量控制系统、可调高压、精确的压力传感器单元和精确的目标放置。机器也有能力使用高温合金作为目标，允许沉积最具挑战性的薄膜。Z 650提供了许多附加功能,例如等离子体监视器、防棒装置和高频溅射监视器。该工具还具有精确的沉积监测器，以确保薄膜的精确和一致沉积。防棒装置允许从难以清洁的表面取出薄膜。高频溅射监测器确保膜的彻底和均匀沉积。LEYBOLD HERAEUS Z650是一种高度通用和精确的溅射资产，能够沉积各种材料的薄膜。该设备具有闭环冷却模型、精确定位目标、高频溅射监视器和等离子体监视器等多种特点，旨在提供对工艺参数的出色控制。该系统非常适合需要精确可靠的溅射工艺的制造商。
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