二手 LEYBOLD L 560 K #293824931 待售

LEYBOLD L 560 K是一种高性能的溅射设备，设计用于沉积用于多种工业应用的薄膜。作为真空涂层系统，广泛应用于半导体、光学、电子行业，在玻璃、陶瓷、金属等基板上生产优质薄膜。该单元配备了先进的特性和能力，以确保对沉积过程的精确控制，从而产生具有优越均匀性、附着力和厚度的薄膜。L 560 K的关键部件之一是溅射室，它是发生沉积过程的真空密封外壳。该腔室通常由高级不锈钢制成，以确保坚固性和耐腐蚀性。在腔室内部，有一个或多个由要沉积的材料制成的溅射靶子，如铝、钛或铜等金属。这些目标被高能离子轰击，通常由等离子体或离子源产生，导致原子被喷射并沉积到基板上。LEYBOLD L 560 K中的溅射过程由一台精密的电源和控制机器控制，该机器调节施加在溅射目标上的电压、电流和频率。这样就可以精确调整沉积速率、薄膜厚度和其他对达到所需薄膜性能至关重要的参数。此外，该工具还配备了实时监测和反馈机制，以确保最佳工艺控制和胶片质量的一致性。L 560 K的优点之一是它在处理广泛的沉积材料和基材方面的多功能性。资产可以容纳各种目标大小和形状,从而在选择材料和沉积配置方面具有灵活性。此外，该模型还配备了多个沉积源，如磁控管溅射或射频溅射，以使具有不同材料组成的复杂多层薄膜能够沉积。LEYBOLD L 560 K还具有高性能的抽水设备，可以达到溅射过程所需的超高真空水平。抽水系统通常包括涡轮分子泵、低温泵和粗加工泵的组合，以确保将腔室快速有效地排空到所需的真空水平。这不仅提高了沉积膜的质量，而且减少了室内的污染和杂质，导致了更清洁、更可靠的薄膜涂层。总之，L560 K是一种先进的溅射装置，为各种工业应用中的薄膜沉积提供了先进的性能和精确的控制。该机器设计多种多样、性能高、界面方便,非常适合研发以及高质量薄膜涂层必不可少的大型生产环境。