二手 LEYBOLD Star 1000 #293775767 待售

LEYBOLD Star 1000是一款高性能溅射设备，设计用于薄膜沉积，应用范围广泛，包括半导体制造、光学涂层、材料研究等。这套先进的系统采用了最先进的技术来提供对薄膜厚度、组成和均匀性的精确控制，使其成为要求苛刻的薄膜沉积工艺的理想选择。主要功能：1.多目标配置：Star 1000具有多用途多目标配置,允许从不同材料同时溅射。这种能力能够沉积具有定制特性的复杂多层薄膜，如高反射率或低发射率的光学涂层。2.磁控管溅射：该装置采用磁控管溅射技术，与传统的直流溅射相比，提高了溅射效率，能够在较低的压力下沉积。磁控管源提供了很高的电离速率，从而提高了薄膜的附着力和密度。3.基板加热和冷却：LEYBOLD Star 1000配备精确的基板加热和冷却机制，以优化薄膜生长条件。对底物温度的控制允许沉积具有特定特性的薄膜，如结晶度控制或应力管理。4.等离子体蚀刻能力：除薄膜沉积外，该机还能够进行表面清洁和制备等离子蚀刻工艺。等离子体蚀刻能力有助于在沉积前从基板表面清除污染物或天然氧化物，从而确保高质量的薄膜生长。5.工艺控制和自动化：溅射工具配备了先进的工艺控制功能，包括对沉积率、压力、功率等关键参数的实时监控。自动化功能能够精确控制沉积过程,确保胶片特性的可重复性和一致性。6.增强型真空资产：Star 1000配备了高性能真空模型，以实现溅射过程所需的基本压力。坚固的真空泵和集成的工艺室设计确保在清洁、低污染的环境中高效的气体排出和沉积。7.用户友好界面：该设备具有直观的用户界面和全面的软件控制，便于操作和监控。图形界面为用户提供过程参数的视觉反馈，并允许设置自定义沉积配方。8.安全功能：LEYBOLD Star 1000具有多种安全功能,可确保操作员保护和系统完整性。这些功能包括用于真空和电源保护的互锁、紧急停止机制以及用于设备状态监控的内置诊断程序。总体而言，Star 1000溅射机为精密薄膜沉积、等离子体蚀刻和工艺优化提供了一个通用平台。凭借其先进的特性和功能,该工具非常适合需要具有量身定制特性的高性能薄膜涂层的各种研究和工业应用。