二手 MEIVAC / ALCATEL / COMPTECH 2460 #50094 待售

ID: 50094
Sputtering system, turbo and cryo pump replaced Electrical rack with original operating system (window 2000 and Wonderware with GE 90-30) SST Chamber with motor drive lid Four pockets He backside 6" wafer notch (or custom) 10 KW/Matching Network RFPP for target 2 KW/Matching Network RFPP for substrate He backside gas with pressure control Pumping: Turbo pump and water pump package with ISO 250 Flange. QDP40 Dry Pump foreline 17” Target backing plate Currently disassembled and in parts.
MEIVAC/ALCATEL/COMPTECH 2460溅射设备是一种半导体金属化系统,设计用于在低温下将极薄的金属膜层沉积到各种基材上。该装置利用工艺气体的分压和负直流溅射电源,产生高度均匀的薄膜,并严格控制表面粗糙度和厚度。溅射机采用独特的形状,形成适合先进半导体器件制造的薄膜。MEIVAC 2460对薄膜层的结构和组成提供了卓越的控制和灵活性。这些层是使用高纯度反应物气体和最适合低温和细线金属化的三极管阴极等离子体生产的。等离子体是通过一个充满反应物气体的反应室施加高压形成的,创造了一个非常适合薄膜沉积的富含离子的环境。ALCATEL 2460溅射工具设有旋转基板台。这允许高吞吐量,并且可针对角位置和径向位置进行调节。这确保了薄膜层在所有基板上的均匀性和可重复性。COMPTECH 2460进一步配备了室缘式快门式气体喷射器,以提高溅射速率。2460通过严格控制基板上的通量轮廓,产生极均匀的薄膜,导致充电效果低,附着力好,货架寿命显着提高。此外,MEIVAC/ALCATEL/COMPTECH 2460具有高度均匀的负直流电源,提供了出色的目标侵蚀控制和对基板映射的溅射功率调整。它还具有先进的工艺气罐,以便在操作过程中保持工艺气体的最佳纯度和压力。MEIVAC 2460溅射资产有许多应用,包括OLED制造、薄膜晶体管、磁记录介质、等离子体和光电器件。凭借其先进的控制和灵活性,ALCATEL 2460提供了无与伦比的性能、可靠性和可定制的选项。
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