二手 MEIVAC / ALCATEL / COMPTECH 2460 #9174790 待售

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ID: 9174790
RF Sputtering systems Process chamber ultimate vacuum: ≤ 2.0E^-6T Process gas pressure range: 0-50mt Process gas flow: 1-200sccm RF: Up: 0-2 kW Down: 0-5 kW 1994-1995 vintage.
MEIVAC/ALCATEL/COMPTECH 2460溅射设备是一种最先进的溅射系统,旨在提供增强的沉积过程控制和快速处理时间。该装置结合多种沉积技术,在多种基材上产生高质量的结果。该机是一种工业级设备,旨在提高再沉积过程的效率。MEIVAC 2460创新的溅射沉积过程由计算机控制的可编程逻辑单元控制,允许精确准确的操作设置参数。该工具配有两个真空室、两个沉积源,以及一个提供最高烘烤温度2600 °C的高性能分离室的旋转传递组件。此外,该腔室的设计允许将溅射材料均匀输送到基板上。ALCATEL 2460溅射资产的设计旨在减少废品和提高吞吐时间。高度自动化的功能允许快速溅射过程,而不会给产品带来更快的上市时间。计算机控制过程可确保各种基材的薄膜沉积是可重复和一致的。2460溅射模型采用了最新的调制功能技术。这项技术可以加强沉积过程的控制,从温和到侵略性的条件.这种特性对于其他方法以前导致可变和不可靠结果的难以拍摄基板特别有用。COMPTECH 2460溅射设备采用模块化设计,允许在系统尺寸和形状方面具有灵活性,并允许更换破旧零件。这使系统能够在任何给定的时间点以最佳的方式运行,并确保高效且可重复的过程。MEIVAC/ALCATEL/COMPTECH 2460溅射系统可以使用自动或手动控制单元操作。自动机器具有用户友好的图形用户界面和交互式菜单,允许简单和可重复的过程参数。此工具与各种软件包(例如EXECEMUL)兼容,以便自定义资产的性能以获得最佳结果。总体而言,MEIVAC 2460溅射模型是一种多用途设备,允许精确和受控的沉积过程。该系统的优点在于,由于其高度自动化的特性,它提供了可靠且可重复的结果。此外,该设备采用模块化设计,并使用最新技术来确保最大程度地控制过程。
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