二手 MEIVAC / ALCATEL / COMPTECH 602B #9203526 待售

MEIVAC / ALCATEL / COMPTECH 602B
ID: 9203526
PVD Thin film sputtering system (2) Chambers Loadlocked Turn-key.
MEIVAC/ALCATEL/COMPTECH 602B是一种高精度、高效的溅射设备,设计用于沉积金属、电介质和氧化物等薄膜材料。该系统能够生产厚度变化范围广泛、表面特性控制良好的均匀优质薄膜。MEIVAC 602B利用磁控管溅射技术,该技术涉及在一个腔室内产生的加速离子,然后与沉积材料的目标碰撞。除了标准化之外,该单元还提供了一系列用于定制的功能,使其成为薄膜沉积的可靠选择。ALCATEL 602B装有一个直径200毫米的腔室和两个能够独立或同时用于沉积的目标。它的真空泵由根部和涡轮泵两者组成,可达到8x10-7 Torr,使其能够使用广泛的材料。它还具有用热交换器控制温度的能力,以准确控制基板和沉积温度。还提供各种电源,包括DC、dB和脉冲功率级别,以及可调频率和基板偏置功能。整个机器能够以每秒100埃以上的速度运行选定的进程。此外,602B还配备了专用阀门、气体溷合工具以及先进的自动化功能,使薄膜能够精确地沉积。它易于使用的界面还允许用户远程监控工艺参数,使其成为各种沉积应用的绝佳选择。该资产还能够集成到更大的生产线中,并可以使用额外的输送机、晶片装载机和专用的喷嘴模块来提供最大的精度和灵活性。作为一个整体,COMPTECH 602B是一个高度先进的模型,能够生产出高质量、高一致性的均匀薄膜,适用于广泛的应用。通过使用精密溅射技术,用户能够在一系列材料和基材上创造出准确可靠的结果。此设备的高级功能和自动化功能进一步提高了用户的控制水平和准确性。
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