二手 MRC 602 #9008360 待售
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MRC 602是温州科达真空技术有限公司生产的多功能溅射设备。设计用于将涂层材料薄膜沉积在基板上。该系统由一个超高真空底槽、两个溅射室、两个烘烤室和一个多色以太网操作单元组成。超高真空底槽用于将溅射室和烘烤室预泵至10-4 Pa以下的真空水平,然后将这种真空与底槽隔离,形成独立的独立室。两个溅射室配有七层耐真空不锈钢挡板,允许对超高真空条件进行精确控制。腔室还配备了主动冷却机,在溅射处理过程中均匀加热/冷却。双溅射室装有13位高功率磁控管溅射源。这些溅射源能够产生每分钟0.05至10纳米的沉积速率,从而能够对基板进行精确的薄膜涂层。此外,电源配备了独立的交流电源,允许高低功率设置都进行调整,以提高灵活性和稳定性。这两个烘烤室用于在溅射加工过程中将基材温度提升至300 °C。这样可以更好地控制温度,还可以处理更多的溅射材料。烘烤室还配备了热电偶反馈控制工具,允许在溅射过程中更快、更精确的温度控制。最后,利用多色以太网操作资产来控制溅射模型。这包括对溅射源的精确控制、烘焙室温度以及超高真空底槽。这使用户能够快速轻松地自定义设备设置以满足其特殊需求。总体而言,602是一个先进的,高度通用的溅射系统。其特点和精确的控制保证了涂层在基板上的精确薄膜沉积。此外,它采用超高真空、大功率磁控管溅射源、热电偶反馈控制系统等先进技术,确保了卓越的性能和可靠性。
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