二手 MRC 603 I #9107596 待售

MRC 603 I是一种溅射设备，设计用于微电子、平板显示器和相关薄膜工程领域。该系统集成了多个溅射源和高性能等离子体处理器，生产出具有出色均匀性的高品质薄膜涂层。该单元具有单个目标溅射室、双磁控管溅射头和室内弧源。溅射室可容纳高达8英寸（203毫米）直径的晶片和内置在机器中的多种特性，可以方便地装载和卸载基板。603 I工具提供了广泛的溅射目标材料，从金和铂等贵金属到铝、钴和铬等导电和半导体材料。双头磁控管具有对功率水平、偏置电压和温度的独立控制，允许精确精确的薄膜沉积。该电弧源使用的是氙气作为工作气体，它对等离子体环境提供了特殊的控制，从而能够精确地控制薄膜表面和性能。MRC 603 I提供了广泛的过程灵活性。两个目标源均可独立控制溅射的射频功率、脉冲频率和占空比，便于优化每种材料的沉积过程。腔内弧源允许产生高反应性物种，用于表面修饰和氮化。它还提供了一种方法来增强薄膜与底物的粘附，而无需额外的化学过程。603 I具有先进的过程控制软件,用于实时监控和记录溅射参数。这样可以方便地识别过程问题和精确的过程控制。此外,该资产还包括高级数据分析功能,允许对工艺参数进行微调,以实现最佳的薄膜性能。该软件还允许方便的数据传输和存储功能,从而方便地共享胶片数据以及开发和定制溅射过程。总体而言，MRC 603 I是一款高性能溅射模型，其设计和配置满足微电子、平板显示器等薄膜工程应用的需求。603 I以其广泛的目标材料、强大的弧源和先进的软件监控能力,提供出色的薄膜沉积,具有很高的均匀性和可重复性。