二手 MRC 603 II #293647878 待售

製造商
MRC
模型
603 II
ID: 293647878
Sputtering system (3) Cathodes Cryo pump Gasses: Argon, Oxygen Wafer configuration: 16 x 3 inches 9 x 4 inches 5 x 5 inches 4 x 4 inches.
MRC 603 II是由制造公司欧瑞康莱博尔德真空开发的溅射设备。它是一个强大的工具,设计用于重复工业加工和溅射多达四种不同的材料在一个运行。这使得它非常适合广泛的应用,包括薄膜、涂层和保护性涂层。MRC 603-II有两个不同的模块,一个阴极源和一个目标腔室,都连接到单个电源。这使得系统能够以脉冲电流和恒定电流运行。阴极源模块由两个腔室组成:一个用于溅射阴极,另一个用于加热基板。目标腔室设计为同时溅射多达四种不同的材料,并具有集成涡轮泵,以更快的处理时间。603 II是一个极具效率的单元,能够生产高质量和均匀性的产品。它的真空控制机器也有助于确保清洁的工作环境,让用户安心,他们的产品不会受到残留颗粒存在的不利影响。除了效率外,603-II还非常方便用户。它的用户界面的设计使其易于操作,具有多种设置,允许用户根据自己的需求定制自己的工具。还有一系列可选的附加功能,如金属和陶瓷目标,可以添加,以扩大应用范围。总体而言,MRC 603 II是一种可靠有效的溅射资产,适合多种用途。它的易用性、效率和灵活性使其成为希望利用其全部功能的人们的热门选择。
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