二手 MRC 603 II #9102669 待售

MRC 603 II是一种紧凑、自动化的高性能溅射设备，设计用于将金属或介电材料薄膜沉积到各种基板上。它利用射频（RF）电源产生高功率射频场，电离含有要沉积的目标材料的稀有气体溷合物。溅射材料随后与基板碰撞，形成薄膜涂层。该系统非常适合需要高比例材料沉积的应用，包括工业生产和研发应用。MRC 603-II配备了一个高度可靠的闭环过程控制单元，用于精确控制沉积速率和薄膜厚度。该机具有两个独立的射频电源，每个等离子体最多可提供200W个，以及七个独立控制的目标和底物支架，用于多层薄膜沉积。它坚固耐用的不锈钢设计采用紧凑的便携式外壳，非常适合实验室和生产使用。该工具设计用于在单个腔室资产中操作,支持单个目标或多个目标旋转以进行多层沉积。根据目标材料的不同，在加热或不加热的构型中，它接受的基板尺寸可达8英寸，厚度可达4英寸。603 II还具有真空管理模式，以确保高达5x10-7 Torr的高真空环境。该设备设计灵活,可提供多种溅射过程,包括直流、脉冲直流、双频或射频。它还提供方便用户的软件，便于设置和监测工艺参数，以及沉积后分析。603-II是一个强大而可靠的溅射系统，适用于各种薄膜沉积应用。凭借其紧凑的设计、灵活的操作模式、用户友好的软件和高效的过程控制单元，为各种应用获得高质量的薄膜提供了一种经济高效的方法。