二手 MRC 603 II #9353542 待售

MRC 603 II是为通过溅射沉积实现高性能沉积而设计的溅射设备。这种最先进的系统具有出色的均匀性和稳定性，具有高层附着力，适用于各种应用。它具有以下功能：1.低真空室-真空室由不锈钢制成，最小真空水平为10-7 torr。它包含六个独立控制的目标站，具有可调节的形状持有者，允许根据溅射目标的所需形状在基板上轻松对准。2.基板旋转-MRC 603-II单元允许沿任何方向或旋转方向溅射基板。基板由无刷马达旋转,确保可靠的性能.3.自动目标选择（Automated Target Selection）-自动目标选择机用于确定精确的溅射参数,如脉冲驻留和宽度。它还允许用户为每个层选择基板尺寸、目标厚度和加工时间。4.Theta-2电动机-此设备允许基板在弧线上向上或向下移动,以便使基板上的目标区域与溅射目标对齐。5.高功率双极源-此源通过提供均匀、高密度的等离子体场,可实现有效的目标与基体的粘附。该源产生更长的电离路径长度和更高的离子电流密度，从而使目标和基板之间的粘附更大。6.自动压力控制-此功能使用微处理器自动控制刀具压力。通过改变控制旋钮上的设置，真空压力很容易改变。7.真空和资产故障保护-603 II系列配备真空泵控制器和紧急停止装置,以保护用户在溅射过程中免受任何潜在危害。总之，603-II是一个强大的溅射模型，能够实现精确和可重复的结果。它专为工业用途而设计，因此具有一系列保护用户和设备的安全功能。它是各种沉积和溅射应用的理想选择。