二手 MRC 603 III #9248081 待售

MRC 603 III是牛津仪器设计制造的基于真空的溅射设备。它是一种先进的物理气相沉积（PVD）系统，用于半导体及相关行业的薄膜沉积。MRC 603-III是一种八室磁控管溅射装置，经过充分集成和优化，具有高质量的涂层性能。它具有独特的双态磁控管溅射枪配置，有助于最大限度地提高薄膜质量。该机还包括一个锁载室、一个高性能涡轮分子泵（TMP）和一个集成真空过程监测工具。它能够以较高的沉积速率溅射各种材料，为大面积应用提供了优越的覆盖面。603 III使用多种高性能反应气体和目标材料进行沉积。该资产配有电磁屏蔽，一次最多可容纳四个磁控管。603-III包含了广泛的专有过程控制技术,例如先进的温度控制、气流控制和增强沉积材料的均匀性。该模型还通过自动基板加载和卸载以及从基板到基板的一致可重复性来确保沉积过程的最大重复性。随着温度、速度、压力和真空控制措施的广泛选择，MRC 603 III提供了出色的工艺一致性，并为金属、塑料、玻璃、陶瓷和其他特殊材料等多种基材提供了高质量的沉积工艺。此外,该设备还具有先进的子系统控制、监控和诊断功能。所有的过程参数都可以很容易地监控，在任何给定的时间提供关于系统性能和过程条件的准确数据。MRC 603-III还具有用于数据输入、过程监控、单元诊断和过程控制的高级触摸屏人机接口（HMI）。总之，603 III是一款先进的性价比溅射机，提供卓越的薄膜性能。该工具具有强大的功能集，非常适合大面积沉积和生产具有可重复工艺效果的高质量薄膜。