二手 MRC 603 #166780 待售

MRC 603是由Advanced Energy Industries, Inc.开发的磁控溅射设备，用于薄膜沉积。该系统配有两个直流磁控管源，利用朗缪尔-柴尔德定律产生动态跨场磁控管溅射。通过这个过程，目标材料的颗粒被溅射并与基板碰撞，导致在基板上形成薄膜。603单元设计用于处理多种基材，包括金属和半绝缘材料。它具有低功耗、降低机器成本和提高溅射沉积率等优点。此工具具有内置的自动端点检测和控制资产,无需手动监控溅射过程。MRC 603可以配置两个紫外线（UV）光源，提供稳定、高强度的光输出。然后通过投影透镜将这种光聚焦在沉积目标上。通过这个过程，目标物质暴露在紫外线下，然后以蒸气云的形式升华，沉积到基质上。603模型在沉积参数的选择上提供了灵活性，并允许在薄膜沉积过程中优化工艺条件。还可以在系统中添加氧气流动设备，以鼓励更快的沉积速率。此外，该装置允许包括各种离子源，如摩根石、钛铂和二氧化碳（CO2）。MRC 603机的这些特点和功能使其成为薄膜沉积的理想选择。高度的控制、准确性、灵活性和成本效益使这一工具对各种沉积应用具有吸引力。能够处理多种基材并进行精确和可再现的薄膜沉积，为用户的薄膜工艺提供了更好的性能。