二手 MRC 603 #201033 待售

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製造商
MRC
模型
603
ID: 201033
Inline sputtering system.
MRC 603是MRC制造的高端溅射设备。专门为生产薄金属和氧化物而设计。该系统能够沉积各种材料,包括金属、合金、氧化物和化合物。该单元有两个溅射目标,最大尺寸为300毫米。这两个目标都能够产生高达200 kV的直流电压,而功率可以调节到高达25 kW。电极使用直流电源供电,因此可以达到高达4.5 nm/min的沉积速率。603配备了高性能目标定位机,可以让一系列不同大小的目标精确定位在基板上。它还有一个先进的溅射控制工具,使材料的精确和可重复的沉积。溅射资产还具有快速物料转移的能力,目标切割过程可确保精确调整而无需人工操作人员干预。使用敏感材料或小型材料时,此功能非常有用。MRC 603还具有自动压力平衡模型,有助于保持最佳沉积条件。它能够在许多不同的压力条件下运行,从真空到高压环境。该设备还具有先进的绝缘和冷却功能,并具有多种散热功能,以确保精确的溅射效果。它有一个内置的电离系统,有助于降低污染风险。总体而言,603是一种高效可靠的溅射装置,能够生产薄金属和氧化物。它是耐用的,并且可以产生精确的结果,以最小的人工干预。机器的先进特性使其成为任何高端沉积需求的绝佳选择。
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