二手 MRC 603 #293629525 待售

MRC 603是一种最先进的溅射设备，用于各种薄膜沉积应用。它配备了大功率的射频和直流磁控管溅射源，允许金属、介电和半导体薄膜的精确一致的沉积。603具有广泛的功能，包括基板尺寸可达18 "x 24"，温度控制范围从室温可达300 °C，最多可达3个独立的沉积源，使用该系统可沉积多种材料。该单元还包括多轴机械手、基于Web的软件控制机、温度和压力感测能力以及自动材料和参数选择。此外，该工具是自我监测，以防止碰撞、压力过大以及可能影响沉积质量的任何其他计划外事件。MRC 603溅射资产的设计可提供最佳的薄膜沉积性能。其大的反应性和电弧室允许非常高效的沉积；精密快门组件进一步确保了其均匀性。其原位清洗能力保证沉积物质量一致，而模型的高吞吐量允许快速生产。此外,603的灵活性有助于确保所有应用程序都能得到解决,而不管层组合和材料曲面的复杂性如何。MRC 603结合了强大的高级工程和先进的软件控制，成为高质量薄膜沉积的理想工具。其多用途的沉积源、温度和腔室大小阵列，以及高沉积率、可靠性和多轴机械手，使603成为一种强大而全面的设备。它是各种沉积应用的理想工具，从高性能导电金属膜到保护性介电层和半导体层。使用MRC 603,用户可以确保可靠和高效的生产,以及能够容纳各种应用程序的各种功能和材料。