二手 MRC 603 #293667099 待售

MRC 603是为在真空环境中沉积而设计的溅射沉积设备。该系统由溅射源、离子源、样品支架、真空室和电源组成。溅射源由一个直流电（DC）阴极和一个阳极组成，阳极带电的电压很高，通常在-400至1000伏之间。这种电荷引起带正电荷的气体离子轰击，导致源中所含物质溅射沉积到样品支架上。离子源用于中和溅射过程中产生的任何带正电的离子。这确保了溅射的颗粒大小均匀，降低了样品污染的风险。样品架由一个旋转的滚筒组成，最多可容纳七个样品。这允许在相同条件下进行可重复和高质量的沉积。真空室是单元的主要部件，设计用于维持10-5 Torr的恒压。为了承受这种压力，机器中安装了一个旋转泵，用于疏散腔室。从腔室液晶屏上仔细监控和控制压力。在两次沉积之间，使用高纳米的清洁墨盒清洗腔室，用来清除腔室墙壁上的任何堆积材料。电源是溅射工具的最终组件，用于控制溅射过程的电流、电压和时间。它能够同时控制多达三个来源，允许同时沉积额外的材料。电源还包括计时器,可实现精确且可重复的溅射过程。综上所述，603溅射资产旨在在真空环境中为零件表面提供均匀一致的涂层。该模型允许同时沉积，并且易于操作，从而获得可靠的结果。