二手 MRC 603 #293761946 待售
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MRC 603是一种用于薄膜沉积的溅射设备。它采用直流电、平面磁控管源，利用永磁产生定向等离子体流。溅射系统配有可变功率射频源，以提供额外的离子能量控制。603是一个紧凑的单元，能够在直径达8英寸（203毫米）的基板上产生高达1000 nm/min的薄膜沉积速率。该机配有加热阴极、原真空室、4象限质量流控制器、互锁工具、快门和夹具。加热阴极是MRC 603中决定所得薄膜沉积质量的主要元素。它使用温度控制的加热器和计算机控制的温度传感器来维持适当的温度，并确保均匀、一致的沉积结果。原真空室是一个圆柱形的腔室，侧面有一个面向溅射目标的狭缝。该室的设计目的是为沉积过程保持一个苛刻的清洁环境。它具有挡板底部以增强均匀泵送，以及低真空排气环以降低整体压力和保护基板免受污染。4象限质量流控制器用于调节活性溅射气体溷合物的各个组分，维持沉积过程的最佳条件。互锁资产监测大气压力、基板温度、溅射功率和气体。一个快门和夹具模型允许进入溅射区准备和去除基板。当射频发生器打开时,快门自动打开,并在关闭电源时关闭。该夹具用于保持基板的位置,并在最短停机时间内方便基板交换。603是一种高度可靠、坚固和高效的溅射设备，用于各种薄膜沉积应用。为实现均匀、可复制的薄膜沉积结果提供了精确的几何参数控制。
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