二手 MRC 603 #9008357 待售

MRC 603是一种为薄膜沉积而设计的溅射设备，能够对优质材料进行磁性和直流电溅射。系统装有200毫米磁控管阴极，允许双向精确、可重复的溅射。该装置有一个真空室，能够容纳直径不超过6英寸、厚度不超过1英寸的基底，基压小于5 × 10-6托。其操作由内置软件的触摸屏PC控制，简化并允许用户设置电源电压、气流控制、等离子体参数等参数，用于精确控制溅射过程。机器的主要部件是电源、真空室、阳极阴极、目标、背板和屏蔽。603提供了一个易于使用的平台，可以在一系列材料上存放高质量的胶片。它能够从单角源和双角源溅射正负离子，允许更精确的定向溅射。该工具还包括一个独立的二次电子枪，提供对离子束沉积角度的控制，提供在一系列材料上产生更厚和更光滑的薄膜沉积的能力。该资产对包括目标距离、溅射压力、功率、电压等相关参数在内的所有参数提供精确的数字控制。腔室还配备了高性能涡轮分子泵，可用于减少沉积时间，达到更高的薄膜质量。溅射模型还采用原位清洗工艺，可控制沉积速率和薄膜质量。设备配有自动基板定心泵站，允许目标到基板距离非常低，用于精确和可重复的溅射。MRC 603旨在为研究和工业提供各种材料的可靠溅射。它的高精度、重复性和灵活性使其适合于多种应用，从薄膜涂层，到光学和生物医学器件，再到超导体、光学材料的沉积等等。