二手 MRC 603 #9160654 待售

MRC 603是一种直流磁控管溅射设备，设计用于将薄膜沉积在基板上，用于一系列应用。该系统采用直流磁控管、电源、工艺室和真空单元的组合运行。磁控管提供溅射过程所需的电子和离子，电源调节磁控管的输出。加工室通常是一个小的圆柱形室，基板支架安装在中心。该工艺室有一个用于泵降和气体控制机的端口，以及另一个用于磁控管的端口。真空工具有助于保持溅射过程所需的压力。603资产是一种特别通用的溅射模型,因为它具有各种射频、直流、Ar/O2和反应性溅射配置。在射频溅射沉积中，磁控管与高频电源耦合，在磁控管和基板电极之间产生高频场。该场导致溅射气体电离，导致溅射。直流溅射沉积涉及直流电源和直流磁控管，在磁控管和基板之间产生直流磁场。直流场在基板表面产生负偏置电压，提高溅射电离能。Ar/O2溅射沉积利用由气体控制设备监测和调节的富氧环境。氧气与氙气结合生成Ar+离子，导致目标物质溅射。反应性溅射沉积结合了直流溅射沉积和反应性气体，如氮或碳。通过引入适当的气体，可以沉积反应材料的薄膜，如氮化物或碳化物薄膜。MRC 603是一种坚固可靠的溅射系统，旨在满足各种薄膜沉积需求。其多种多样的配置选项使其成为各种应用程序的绝佳选择。该装置在高功率水平下运行，磁场由真空馈流密封和封闭。电源控制允许用户修改各种溅射配置的电源级别,从而提供更高的控制和过程准确性。603机是在各种基材材料上制作高质量薄膜的绝佳选择。