二手 MRC 603 #9161023 待售

MRC 603是用于薄膜沉积的最先进的溅射设备。该系统利用磁增强反应性溅射沉积（MARS）沉积具有优异均匀性和优越电学和光学性能的薄膜。603配有3-D定位基板支架，可精确定位多达5种基板。这种先进的基板支架结合轴向磁控管在每个溅射过程中提供均匀的薄膜生长。溅射源还具有计算机控制的功率水平，可针对各种工艺条件进行调节，如沉积速率、成分或应力。MRC 603具有利用脉冲质量流控制器和多条气体管线进行气体溷合的闭环气体流动单元。这可以精确控制气体成分和纯度，也可以快速循环不同的工艺气体。气流机还配备了RTG（实时气体监测）工具，在任何给定时间监测溅射室内的气体成分。603还具有许多旨在保护用户和资产的安全功能。这包括一个紧急停止按钮、一个超压指示器、一个防日冕模型以及内置的气体泄漏检测和清除系统。此外，MRC 603有一个广角观光口，可以让使用者从溅射室外观察过程。这为监测沉积过程提供了一种方便的方法，而不必打开腔室的门。603还配备了遥控用户界面，使用户能够从远程位置设置和运行设备。这大大改善了用户体验，使用户能够随时跟踪沉积过程。总体而言,MRC 603是一种先进的溅射系统,它具有广泛的沉积性能,具有出色的均匀性和优异的电学和光学性能的薄膜。603具有众多的安全特性、精确的气体溷合以及遥控用户界面，是广泛薄膜沉积应用的理想溅射装置。