二手 MRC 603 #9194036 待售

MRC 603是由Jelight Company Inc设计的先进溅射设备。该系统旨在满足薄膜沉积的广泛研究需求。它的运作方式是产生辉光的离子放电，轰击目标材料，通过将目标材料上的颗粒击落来形成薄膜。目标材料可能包括磁性材料、电介质、半导体和高导电材料。该装置包含两个定制设计的高真空室，坚固耐用，可长期使用，正常运行。采用射频驱动的等离子体源来提高离子轰炸率。最终结果是均匀、优质的薄膜。机器包含一个集成的冷却工具，运行多个进程，并且能够进行预编程操作。603自动薄膜沉积资产集成了用户友好、易于使用的软件界面。该界面具有用于自动流程优化的直观操作程序和用于存储快速配置特定流程和工具所需配方的数据库。配方配置简单，可以分几步完成。模型可以在两种模式下操作；手动操作或全自动操作。在手动模式下,操作使用图形界面菜单进行指导,该菜单允许进行过程调整以获得所需的产品。在全自动模式下，流程按顺序优化，为设备在后续运行中的最佳沉积做好准备。系统可以配置许多工具以实现进一步的自动化。使用直线电动机级和水平样板支架可以实现自动化和验证。此外，MRC 603可以连接到外部气体管线，以控制和恒定气体流入腔室。废气颗粒可通过原位颗粒监测系统进行监测。综上所述，603溅射装置是为薄膜沉积需要而设计的先进工具。它提供了强大的工程设计、坚固的构造、直观的用户界面、自动化的操作以及各种工具,可增强灵活性和优化。