二手 MRC 603 #9219234 待售

MRC 603是用于研发应用的最先进的小型溅射设备。它可用于沉积具有卓越均匀性和优越工艺控制的薄膜。该系统由超高真空锁载室、真空非磁性可旋转溅射目标、个人计算机控制（位于3x5'操作员控制台）和惰性气体供应组成。具有高压电源和控制器的溅射室用于薄膜沉积。该室容纳各种溅射源，包括磁控管和射频（RF）源。溅射目标安装在腔内，并且是可旋转的，以尽量减少膜厚度变化，从而确保均匀沉积在基板样品的两侧。该单元利用单通闭环电子束蒸发和来自周期性交替源的直接溅射。这样可以加快沉积时间,同时提供最高质量的薄膜。基板样品由三轴真空级固定到位，在溅射前可以在x-y-z平面上调节。膜沉积后，样品可以转移到冷却室中，以便迅速冷却下来。该机配备了先进的过程控制和监控功能，提供过程重复性和可调参数，以提高产量。它利用闭环反馈工具监测目标材料的溅射速率、温度、压力和气流，以保持工艺参数。603使用户能够在小型溅射资产中存放均匀、可控、高质量的薄膜。它是一种高效和可靠的工具，可用于为不同类型的项目沉积各种材料。它提供了卓越的过程控制和可重复性，使其适合高度专业化的研发应用。