二手 MRC 603 #9246783 待售

MRC 603是一种溅射设备，通常用于物理气相沉积过程。它通常使用电子轰击或磁控管溅射来激活基板中的粘合原子，并将它们沉积在第二个基板上。603是一个多用途系统，利用三个源：两个平面直流磁控管溅射枪，和一个旋转直流磁控管涂层。它的设计基于一个双源平台，允许对每个源进行独立控制。每把枪都有自己的电子设备，带有一组专用的过程参数，如功率、屏蔽模式、速度和倾斜角。沉积过程由微控制器单元（MCU）控制。它的控制器非常精确，可以精确控制工艺参数，而不会对基板造成任何污染。此外，控制器还设有一个独立的流程监测单元，为用户提供有关流程的实时反馈和深入数据。MRC 603还具有独特的屏蔽设置，可以减少溅射过程中产生的颗粒和污染。这是由固定盾牌和辅助盾牌组合而成的。这些防护罩是可调的，可以定制，以适应几乎任何阀门/距离配置或物理溅射设置。屏蔽与专用的直流磁控管源一起，创造了一个非常有效的溅射过程，减少污染，减少溅射粒子的回流。此外，由于能够量身定制工艺，因此可以生产厚度控制非常薄的薄膜。603被设计为自动化机器。因此，它包含许多自动特性，如振动极，以确保均匀沉积在基板上。MRC 603具有自动脉冲和大基板支架，非常适合需要高通量的应用。总体而言，603是一种用途广泛且可靠的溅射工具，可生产出污染最小的先进薄膜涂层。其精密的设计和高精度的控制资产，可确保沉积均匀，质量高。此外，其可靠的屏蔽模型确保了最佳工艺条件和对溅射颗粒的安全处理。