二手 MRC 603 #9269412 待售

MRC 603是为薄膜沉积而设计的溅射设备。它是一个高真空、高功率和多用途的平台，用于在直流和射频模式下溅射薄膜。603具有单个电子枪和两个强大的磁控管溅射源，能够产生平面和圆柱形目标。该系统采用涡轮泵浦高真空室，底压优于5x10-5 Torr，实现超高真空条件。支持手动和自动操作的用户友好控制器为MRC 603提供了直观、轻松的操作和控制。该装置包括温度、压力、沉积速率和薄膜厚度等工艺参数。它还具有调频、脉冲溅射和可选过程等其他高级功能。603有两个平面磁控管单元,用户可以在不同温度下控制四个平面磁控管溅射目标。这些装置的特点是，当达到所需的薄膜厚度时，可以停止溅射过程。浓缩离子束（CIB）源提供了精确、精确地溅射材料的能力。它具有两个可调节的工作距离与手动或自动模式控制。CIB能够生产高质量的合金和其他材料薄膜。MRC 603上的多室操作支持允许最多三个室相互连接和串联操作，或者在每个室中进行单独的操作。对于需要几步沉积的用户来说，这是一个有利的功能。603为磁控管溅射源的外部匹配网络控制提供了可调射频电源。直流电源允许用户为电子枪设置电压，并保护机器免受过压或过流情况的影响。MRC 603是各种应用中经济高效、高质量薄膜沉积的绝佳选择。它的多功能性和用户友好的界面使得它适合研究以及工业薄膜加工。