二手 MRC 603 #9272191 待售

MRC 603是一种着名的溅射设备，适用于沉积薄膜，用于电子、光电和显示行业的各种应用。它通常被认为是薄膜沉积的一个组成部分，这是一个沉积过程，涉及将材料的薄层引入目标基板，以提高目标的性能。603是一种先进的溅射系统，其特点是使用多磁控管进行膜沉积。该装置旨在促进均质和可重复的全球复合薄膜。它由一个钟形罐室组成，容纳一个或两个磁悬浮旋转溅射源组件。超高吸尘器保证清洁和高产.MRC 603的先进技术使其在双目标模式下达到15nm/min的可重复沉积速率，在单目标模式下达到10nm/min。603可以容纳直径可达350毫米的基材。它还具有最先进的控制计算机，能够快速溅射时间选择和可重复速率控制。控制计算机还允许用户实时调整任何工艺参数，以达到任何沉积要求的最佳机器性能。该工具还包括压力安全互锁等先进的安全功能，以确保基板和资产在工艺条件下的安全。它还具有检测高功率状态和防止电弧的能力。其他功能包括强大的气体控制系统，以实现惰性和反应性或原位处理。该模型还提供了特殊的腔室清洁度-通常低于1E-9T，通过移动腔室偶极子和冷捕设备的组合实现。这在光学涂层的情况下尤为重要。该系统采用先进的旋转HPR磁悬浮源组件，具有较高的电离效率和沉积均匀性。总而言之，MRC 603是一种先进的溅射装置，适用于电子、光电和显示行业中多种薄膜材料的沉积。其先进的特点，如可重复率、可调工艺参数、腔室清洁度和安全系统，确保沉积均匀、可重复，过程可靠、安全。