二手 MRC 643 #193489 待售

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MRC 643
已售出
製造商
MRC
模型
643
ID: 193489
Sputtering system (2) cryo pumps, (2) 13"x13" cathodes targets and (1) blank target (1) Alumnium cathode, (1) Titanium, (1) blank RF Power Supply and DC Generator 208 V, 100 A, 50 Hz, 3 Ph Chamber still under vacuum MRC 8080 Microprocessor controller Pumps down to 10^-7 Torr.
MRC 643是MRC有限公司设计的多功能溅射设备。它利用双源磁控管直流电源将金属或氧化物沉积在基板上,非常适合广泛的应用。该系统还提供三个独立的目标,其组合目标面积最大为800mm宽,并且可以接受直径最大为6"的晶片和直径最大为200mm的基板。643单元允许同时溅射单目标和多个目标,以提高生产率,并进一步使多层薄膜沉积。该机还具有可编程参数如直流电压、气体控制和腔室温度的综合工艺控制单元。此外,该工具还允许轻松调整流程参数,以适应每个应用程序的特定要求。在安全性和可靠性方面,MRC 643设计具有多种安全特性,包括内置控制资产和20元气体监测模型。设备还包括三重显示器和一系列警告灯,提醒操作员注意任何故障或严重情况。643是一个高效、健壮的系统,非常适合各种溅射沉积环境。凭借其先进的安全特性、多重溅射目标以及沉积复杂层的能力,该单元非常适合薄膜太阳能电池、生物材料涂层、集成电路涂层等应用。此外,凭借其控制单元和可调节的工艺参数,机器能够处理多种材料的简便和准确的一系列不同的应用。
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