二手 MRC 643 #293660538 待售

MRC 643是一种计算机控制的脉冲直流磁控溅射设备，设计用于薄膜和蚀刻应用。设计为在真空条件下提供优质、均匀的薄膜沉积和可控蚀刻。该系统能够与各种涂层材料同时溅射多达四个基板或晶片。643具有独特的分装设计，大大提高了溅射装置的多功能性。单个基板可以加载到每个拆分模块中，然后可以将模块带到相同的条件，从而允许目标和基板之间快速切换。这减少了生产时间，使溅射机效率最大化。MRC 663使用低温磁控管溅射阴极。这提供了一个非电离环境，使沉积过程能够进行，而不会产生电荷积累或反应物积累的风险。对低温磁控管产生的工艺压力进行了优化，使其能够对各种涂层材料进行溅射。该工具还具有三级可变电源,可提供1-50 kW的各种溅射功率。这样可以精确控制溅射速率和沉积膜的厚度。该资产还具有多通道参考发生器，可精确控制腔室压力和溅射气体流动。MRC 643还具有一个载荷锁定模型，该模型允许底物在最小程度地暴露于空气的情况下装入腔室。这样可以保持腔室的清洁度，并最大限度地减少沉积膜被污染的机会。该设备还具有自动疏散周期，以将操作压力降低到指定的水平。最后，643还提供了PC控制的图形用户界面，以简化对溅射过程的控制和监控。此接口提供了简单的参数设置、对过程条件的监视以及对系统历史数据的完全访问。此接口还提供有关介质流量、腔室压力和电源传递的反馈数据,从而可以完全控制溅射过程。